Mục tiêu phún xạ kim loại có độ tinh khiết cao Zirconium Zr702

Mục tiêu phún xạ kim loại có độ tinh khiết cao Zirconium Zr702

Zirconium là một kim loại hoạt động có ái lực lớn với oxy và khả năng chống ăn mòn tuyệt vời của màng oxit quyết định rằng nó có thể hoạt động tốt trong nhiều môi trường ăn mòn.

Zirconium có khả năng chống ăn mòn tốt trong axit nitric không quá 90% dưới 200 ℃.Tuy nhiên, cần lưu ý độ nhạy nứt do ăn mòn do ứng suất của zirconi trong axit nitric.
 

Zirconium có khả năng chống ăn mòn trong tất cả các dung dịch xút với nồng độ đồng đều.Khả năng chống ăn mòn vượt quá tantali, niobi và titan.

Ứng dụng của Zirconium Sputtering Target

Mục tiêu phún xạ Zirconium với mật độ cao nhất có thể và kích thước hạt trung bình nhỏ nhất có thể để sử dụng trong màn hình bán dẫn, lắng đọng hơi hóa học (CVD) và lắng đọng hơi vật lý (PVD) và các ứng dụng quang học.

Các mục tiêu phát tán:

Độ dày: 0,04 đến 1,40 "(1,0 đến 35mm).

Chiều rộng lên đến 20 "(50 đến 500mm).

Chiều dài: 3,9 "đến 6,56 feet (100-2000mm)

kích thước khác theo yêu cầu.

Mục tiêu phún xạ xi lanh:

3,94 Dia.x 1,58 "(100 Dia. x 40mm)

2,56 Đường kính.x 1,58 "(65 Dia. x 40mm)

hoặc 63 * 32mm các kích thước khác theo yêu cầu.

Mục tiêu phún xạ ống:

2,76 OD x 0,28 WT x 39,4 ”L (70 OD x 7 WT x 1000mm L)

3,46 OD x 0,39 WT x 48,4 ”L (88 OD x 10 WT x 1230mm L)

kích thước khác theo yêu cầu.

Zirconium Sputtering Target, Zirconium Target có sẵn ở các kích cỡ khác nhau

Kiểm tra chất lượng của Zr và Zr Plate / Sheet:

Thử nghiệm và kiểm tra đảm bảo vật liệu đáp ứng tất cả các thông số kỹ thuật thử nghiệm của tiêu chuẩn quốc tế.