Độ tinh khiết cao 99,8% Titanium Sputtering Mục tiêu Kiểm soát từ tính chân không
2021-11-25 15:33:56
|
Mục tiêu phún xạ Chromium 99,95% tinh khiết cao Hình chữ nhật
2021-11-24 11:52:01
|
Lớp phủ PVD Độ tinh khiết cao 99,95% Chromium Mục tiêu phún xạ
2021-01-19 14:32:56
|
Độ tinh khiết cao Mục tiêu phún xạ 99,999% Si Kiểm soát từ tính chân không
2021-12-23 14:51:47
|
Mục tiêu phún xạ Molypden có độ tinh khiết cao 99,97% cho mục tiêu Mo là lớp phủ PVD
2022-04-19 16:31:47
|
Lớp phủ chân không Molypden phún xạ Mục tiêu đã ủ Tấm molypden tròn
2022-02-28 15:55:13
|
Laser khắc chân không Anneal Molybdenum Target
2022-08-23 17:35:10
|
Mục tiêu phún xạ bề mặt tantalum độ sáng cao
2022-08-05 14:47:50
|
Các mục tiêu phún xạ Magnetron chân không bằng nhôm 99,99% cho lớp phủ PVD
2022-01-05 14:14:04
|